吕海波
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李瑛
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王福会
中国腐蚀与防护学报
采用电化学方法、化学分析和表面分析技术，系统研究了Cu-20Zr双相铸态合金和磁控溅射Cu-20Zr纳米薄膜在HCl溶液中的脱合金腐蚀规律。对Cu-20Zr双相铸态合金的研究表明，铸态Cu-20Zr合金中的双相为富Zr的Cu51Zr14相，及Cu与Cu51Zr14的共晶组织；在低阳极极化电位条件下，Cu51Zr14相因富含活性组元Zr而优先溶解，说明双相合金的溶解行为首先决定于合金的相及其身的活性。对溅射Cu-20Zr纳米薄膜腐蚀规律的研究表明，在不同电极电位下，薄膜中各元素的溶解规律不同，在电极电位低于Cu的标准电极电位时，材料的腐蚀以富Zr相中Zr组元的优先溶解为主；但当电极电位高于Cu的标准电极电位后，薄膜中Cu、Zr元素同时溶解；随后，由于Cu2+与溶液中的Cl-离子反应，生成氯化铜或氯化亚铜腐蚀产物覆盖于薄膜表面，使Cu的溶解过程受到抑制，但Zr元素却仍然随电极电位的增加而快速溶解。
关键词:
脱合金腐蚀
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magnetron sputtering
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nanocrystalline film
